구형 장비로 반도체 및 디스플레이 회로를 100배나 더 정밀하게 그릴 수 있는 기술이 개발됐다. 기업 연구진이 대학과 공동으로 개발한 기술로, 해당 기술은 액정표시장치(LCD) 뿐만 아니라 유기발광다이오드(OLED)에도 적용이 가능해 관련 산업 경쟁력을 큰 폭으로 높일 수 있을 것으로 기대된다.

LG디스플레이는 심우영 연세대 신소재공학과 교수팀과 공동으로 기존 '노광장비'를 이용해 디스플레이 및 반도체 회로에 그리는 패턴 크기를 100분의 1로 줄일 수 있는 '포토리소그래피' 기술을 새롭게 개발했다고 13일 밝혔다. 

포토리소그래피란 반도체나 디스플레이 제조공정에서 사용하는 공정기술이다. '포토마스크'라는 판 위에 빛을 가해 사진을 찍듯 회로를 만든다.

연구팀은 기존에 사용하던 딱닥한 포토마스크 대신 유연하고 투명한 타입의 새로운 마스크를 적용한 공정을 개발했다. 이 결과 기존 노광장비로도 본래의 100분의 1에 해당하는 수십 나노미터(㎚=10억분의 1m)의 초미세 패턴을 구현하는데 성공했다. 섬세한 전자회로는 고해상도 구현에 필수적인데다, 마스키 재질이 유연해 휘어지는 '폴더블' 디스플레이 생산에 한결 유리할 것으로 보인다.

심 교수는 "이 연구는 정밀한 포토리소그래피 공정을 개발한 것은 물론, 폴더블 등 곡면 디스플레이에도 적용 가능해 다양한 형태의 소자 공정에서 쓸 수 있을 것"이라고 말했다. 

이번 연구는 과학저널 '네이처 커뮤니케이션즈(nature communications)' 2월호에 게재됐다.