메모리반도체 공정에 핵심소재 중 하나인 '하드마스크'를 생산할 수 있는 기술을 한국 중소기업과 나노종합기술원이 공동으로 개발했다. 일본 등 해외 수입에 의존해 왔던 소재를 국산으로 대체할 수 있을 것으로 전망된다.

과학기술정보통신부는 한국 중소기업 'DCT 머티리얼'과 나노종합기술원의 공동 연구를 통해 '고(高)종횡비 구조의 메모리반도체용 스핀코팅 하드마스크 소재'의 기술 자립에 성공했다고 12일 밝혔다.

'스핀코팅'은 반도체 기판을 회전시키면서 균일한 박막을 형성하는 기술이다. '하드마스크'는 반도체 웨이퍼를 깎아내면서 설계된 전자회로를 새겨 넣는 공정 과정 '패터닝'에 필요한 재료다.

이번에 개발된 소재는 기존 제품보다 평탄화 특성은 물론, 가격 경쟁력도 우수한 것이 장점이다.

글로벌 반도체 기업들이 고집적·초미세화 공정을 적용한 반도체 소자를 생산하면서 기존보다 개선된 성능과 새로운 특성의 하드마스크에 대한 수요가 증가하고 있다. 글로벌 시장 규모도 지속적으로 확대 중이다.

하드마스크 1세대 공정이 미세화 한계에 도달하면서 2세대 공정 개발이 전 세계적으로 활발하게 진행됐지만 한국 중소 소재기업이 활용하는 반도체소재 생산장비는 최종 생산기업이 보유한 장비보다 노후화돼 양산 제품 검증요건을 충족시키기 어려웠다.

DCT 머리티얼은 나노종합기술원의 팹 시설을 활용, 공동으로 기술개발을 추진함으로써 최종 수요 대기업에 납품하기 위한 내열성, 평탄화율 등의 요구 기준을 모두 충족하는 제품 개발에 성공했다.

DCT 머티리얼 관계자는 "나노종합기술원과의 협력을 통해 세계 최고 수준을 뛰어넘는 제품 개발에 성공했다"며 "향후 중소기업 지원 테스트베드가 확충되면 반도체 소재의 기술 자립을 더 앞당길 수 있을 것"이라고 말했다.

고서곤 과기정통부 기초원천연구정책관은 "반도체 핵심 소재·부품·자비의 기술 자립을 지원하기 위해 나노종합기술원과 같은 나노 인프라 기관을 적극적으로 활용할 계획"이라며 "지난해부터 추진 중인 12인치 반도체 테스트베드가 성공적으로 구축되면 한국 반도체 소재·부품·장비 산업 경쟁력 제고에 크게 기여할 것"이라고 밝혔다.